專注于膠粘劑的研發(fā)制造
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光刻膠?又稱光致抗蝕劑，本質(zhì)是一種感光材料，是電子領(lǐng)域微細圖形加工的關(guān)鍵性材料，在半導體、LCD、PCB等行業(yè)的生產(chǎn)中具有重要作用。近年來，隨著集成電路的快速發(fā)展，光刻膠行業(yè)景氣度不斷提高。
2021年2月，位于日本東北地區(qū)最南部的福島縣發(fā)生了一場7.3級地震。這場地震雖沒有像2011年那場9級地震一樣導致核電廠泄漏，但卻造成了設立在福島縣周邊半導體工廠的數(shù)日停產(chǎn)。汽車芯片大廠瑞薩電子的那坷工廠、位于宮城縣的索尼半導體工廠，與福島鄰近的巖手、群馬等地，也匯集了MLCC廠商TDK和太陽誘電，以及存儲器廠商鎧俠...
光刻膠本質(zhì)是一種感光材料，也稱光致抗蝕劑，主要用于微電子技術(shù)中微細圖形加工。在紫外光、電子束、離子束、X射線等照射或輻射下，光刻膠溶解度會發(fā)生變化，再經(jīng)適當溶劑溶去可溶性部分，便可實現(xiàn)圖形從掩模版到待加工基片上的轉(zhuǎn)移。進一步，未溶解部分光刻膠作為保護層，在刻蝕步驟中保護其下方材料不被刻蝕，從而完成電路制作。產(chǎn)品分類上，...
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